按主题分类的文章 "金属卤化物"

1. CVD和ALD前驱体
   发布于 2025年4月30日

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   化学气相沉积（CVD）是一种使用气态或气态物质在气相或气固界面上反应以产生固体沉积物的技术。原子层沉积（ALD）是指CVD的一种变体，它允许利用自限制表面反应在原子水平上进行受控沉积，通常是通过交替暴露于不同的前体。 ...