按主题分类的文章 "有机反应工具箱"

1. 2-碘酰基苯甲酸 (IBX)
   发布于 2025年6月24日

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   2-碘酰基苯甲酸 (IBX)
2. 过氧化脲素（UHP）
   发布于 2025年6月24日

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   过氧化脲素（UHP）
3. Koser试剂，羟基(甲苯磺酰氧代)碘苯（HTIB）
   发布于 2025年6月24日

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   羟基(甲苯磺酰氧代)碘苯（HTIB）是一种市售试剂，可用于多种有机底物的苯基碘化和氧对甲苯磺酰化反应。
4. 保护试剂
   发布于 2025年6月5日

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   有机合成作为有机化学的核心领域，能够制备自然界存在或人工设计的优异性能化合物。当分子中存在多个可能发生反应的位点或官能团时，常面临选择性转化的挑战。在缺乏选择性反应条件时，通过官能团的定向保护与去保护即可实现目标合成。这些临时引入的修饰基团称为保护基，其对应试剂即为保护试剂。 ...
5. 1-羟环己基苯酮（1-HCPK）
   发布于 2025年5月29日

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   市售的1-羟环己基苯酮是氢转移氧化反应中的优良受体。例如，该试剂可用于在NaOH存在下将伯醇和醛方便地氧化为相应的羧酸。
6. 1-氟吡啶三氟甲烷磺酸盐
   发布于 2025年5月28日

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   1-氟吡啶三氟甲烷磺酸盐既是亲电氟化剂，也是单电子氧化剂。
7. 甲酸
   发布于 2025年5月28日

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   Formic acid can serve as both an oxidant and a reducing agent.
8. 过氧化氢
   发布于 2025年5月28日

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   过氧化氢
9. ALD与CVD：精密薄膜沉积与高通量薄膜沉积的差异
   发布于 2025年4月30日

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   原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）的主要区别在于它们的沉积机制、对薄膜性能的控制和应用适用性。ALD是一种连续的、自限性的工艺，可以逐层沉积薄膜，在厚度、一致性和均匀性方面提供卓越的精度，使其成为超薄薄膜（10-50nm）和高纵横比结构的理想选择。另一方面，CVD是一种连续工艺，允许更高的沉积速率和更厚的薄膜，具有更广泛的前体材料。虽然ALD在受控温度下运行，但CVD通常需要更高的温度。这两种方法都用于薄膜沉积，但ALD在精度和一致性方面表现出色，而CVD更适合高通量应用。 ...
10. CVD和ALD前驱体
    发布于 2025年4月30日

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    化学气相沉积（CVD）是一种使用气态或气态物质在气相或气固界面上反应以产生固体沉积物的技术。原子层沉积（ALD）是指CVD的一种变体，它允许利用自限制表面反应在原子水平上进行受控沉积，通常是通过交替暴露于不同的前体。 ...